PRODUCT
光刻设备 : Im-ArF, Dry-ArF, KrF, i-ray
晶圆 : 8英寸（Si、Quartz、Glass等）、12英寸（Si）
Im-ArF
KrF
平铺图案（优异的工艺技术：避免平铺图案的曝光单元黏连现象）
Line & Space
Pillar array
・蚀刻服务
氧化物：SiO2, TiO2, Ta2O5等
金属 : Cr, Al, Ta, Ti等
氮化物 : SiN, TiN等
SiO2
SiO2
TiO2
Ta
・镀膜服务：（PVD,ALD,CVD等）从【设计】、【试制】到最终【量产】的一站式服务。
材料 :
各种金属；
各种氧化物；
反射膜，AR膜。
厚膜的SiO2的ALD
ALD材料：SiO2, TiO2, Al2O3, ZrO2, Nb2O3, ZnO, Al2O3-SiO2, 以及前述材料的多层膜
*可提供镀膜样品
・其它（切割服务、揭开-剥离工艺（Lift-Off）工艺的服务、硅晶圆及石英玻璃晶圆的销售）
300mm硅无缝模具
8英寸无缝石英模具
16层 DOE
闪耀光栅
2层 DOE
纳米柱状图案
・相位板样品
断面图形状
参考分布